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- 思恩半導體科技（蘇州）有限公司
- 上海思恩裝備科技股份有限公司
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生瓷片沖腔機
用途：該設備用于帶框生瓷片沖腔工藝，具有自動上下料、自動定位，自動沖切等功能，滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12
全自動清洗設備（新材料）
隨著半導體行業發展，砷化鎵、磷化銦等二代半導體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導體材料，對于濕化學清洗工藝提出了新要求。在配置傳統獨立濕處理工藝槽（SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry）的基礎上，新材料清洗設備按照客戶工藝菜單進行優化設置，配液精度、配液種類、清洗方式方面進行設計提升，同時保持與行業廠商、學校研究院所的積極聯合探索和設備定制。
TIME: 2024-10-11
半自動濕處理設備
有不同的獨立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設置，機械手在各工藝槽中進行相應的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11
自動供液系統
自動供液系統可以通過VMB給多臺設備進行供液。具有過濾、循環功能，根據用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環系統；當其中一個桶內的液體用完時，能夠自動進行雙桶切換并且提示用戶。同時還具備化學液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11
溫等靜壓機
該設備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業，最 大壓力80MPa，最大直徑600，最小230
TIME: 2024-10-11
全自動疊層機
全自動疊層機是用于生瓷片疊片的設備，具備自動上下料、自動切片、自動撕膜、自動對位、真空疊壓等功能，廣泛應用于LTCC、HTCC、MLCC等領域。
TIME: 2024-10-12
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有機清洗機主要用在什么地方
2024-11-21有機清洗機主要用于以下幾個方面： 1.工業制造領域 電子工業 半導體制造：在半導體芯片的生產過程中，有機清洗機起著至關重要的作用。芯片制造工藝復雜，經過光刻、刻蝕、沉積等多個工序后，晶圓表面會殘留光刻膠、蝕刻液、金屬顆粒等污染物。有機清洗機可以使用特定的有機溶劑，如丙酮、異丙醇等，有效去除這些雜質。例如，在光刻膠去除環節，清洗機能夠正確控制清洗液的溫度、濃度和清洗時間，確保光刻膠被徹底清除，同時不會對芯片表面的優良結構造成損傷，保證芯片的性能和質量。
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自動供液系統的作用是什么
2024-11-14自動供液系統具有多方面的作用，具體如下： 1.正確控制供液量： 在工業生產中，可按照生產工藝的要求，正確地將液體輸送到一定的位置，確保每個生產環節都能獲得正確劑量的液體，從而保證生產過程的穩定性和產品質量。例如，在電子芯片制造過程中，需要正確控制各種化學試劑的供給量，自動供液系統可以正確地將這些化學試劑輸送到生產線的特定位置，確保芯片制造的精度和質量。
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溫等靜壓機的特點是什么
2024-11-07溫等靜壓機具有以下特點： 1.壓力均勻性高： 工作時，將待處理的工件放入充滿液體的封閉容器中，利用液體的不可壓縮性和流動性，使壓力均勻地傳遞到工件的各個表面，確保工件在各個方向上受到的壓力相等。這種均勻的壓力作用能夠使成型后的工件密度均勻，內部結構緊密，提高了工件的質量和性能。例如，在陶瓷材料的成型過程中，溫等靜壓機可以使陶瓷坯體的密度均勻性大大提高，減少了因密度不均勻導致的燒結變形、開裂等問題。
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